電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)部清洗要求及清洗方式
時(shí)間：2024-11-25 15:41:00作者：LeeZhou來源：德高潔清潔設(shè)備分享到：QQ空間新浪微博騰訊微博人人網(wǎng)微信
多晶硅分太陽能級(jí)和電子級(jí)兩大類，電子級(jí)多晶硅是目前最高純度等級(jí)的多晶硅產(chǎn)品，主要作為硅片及芯片等生產(chǎn)的原材料，是集成電路產(chǎn)業(yè)的核心關(guān)鍵基礎(chǔ)原料。電子級(jí)多晶硅的純度要求則為99.9999999%~99.999999999%，即（9N到11N），電子級(jí)多晶硅的高純度要求相當(dāng)苛刻，如5000噸的電子級(jí)多晶硅中總的雜質(zhì)含量僅相當(dāng)于一枚1元硬幣的重量。
由于多晶硅純度會(huì)嚴(yán)重影響到單晶硅拉制環(huán)節(jié)，所以電子級(jí)多晶硅雜質(zhì)含量要求更為苛刻，電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)廠家在工藝流程、設(shè)備維護(hù)、產(chǎn)品運(yùn)輸?shù)榷喾矫孢M(jìn)行提升，以提高企業(yè)的競爭力度。而在電子級(jí)多晶硅改良西門子法生產(chǎn)工藝中，還原爐是整個(gè)多晶硅生產(chǎn)系統(tǒng)的“心臟”部件，也是影響實(shí)際產(chǎn)量最核心的工藝環(huán)節(jié)，生產(chǎn)出來的多晶硅質(zhì)量的優(yōu)劣取決于它，因此還原爐鐘罩內(nèi)壁的清潔度直接影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量，同時(shí)，作為多晶硅的生產(chǎn)電耗比重首位的熱沉積反應(yīng)器，其內(nèi)壁的光潔可以有效降低還原電耗，所以在電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)過程中，多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)部清潔至關(guān)重要。
一、電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗要求
1、潔凈度要求
清洗過程中要確保潔凈度達(dá)到電子級(jí)別的標(biāo)準(zhǔn)，這通常意味著要徹底去除鐘罩表面的所有塵埃、污垢和任何可能對硅片產(chǎn)生負(fù)面影響的雜質(zhì)。
2、避免化學(xué)污染
清洗過程中使用的化學(xué)品必須是高純度的，并且不得留下任何殘留物。使用去離子水（DI水）等高純度水源是必要的，以避免引入任何額外的離子或雜質(zhì)。
3、溫度控制
清洗過程中的溫度應(yīng)該在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，以確保清洗劑的有效性，并防止對設(shè)備產(chǎn)生不良影響。同時(shí)，溫度控制也有助于防止在清洗過程中產(chǎn)生的水汽對設(shè)備腐蝕。
4、機(jī)械清洗
對鐘罩表面的機(jī)械清洗應(yīng)該是適用而徹底的，以在不傷害其內(nèi)部表面結(jié)構(gòu)的情況下，去除附著在表面的任何顆�；螂s質(zhì)。
5、避免靜電
電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)對靜電敏感，在清洗過程中要注意避免靜電的產(chǎn)生。
6、實(shí)時(shí)監(jiān)測和控制
清洗過程中要實(shí)時(shí)監(jiān)測清洗效果，確保達(dá)到規(guī)定的潔凈度標(biāo)準(zhǔn)。
7、設(shè)備保養(yǎng)
清洗設(shè)備本身也需要定期保養(yǎng)，以確保其正常運(yùn)行且不會(huì)引入額外的污染。
8、符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
清洗過程應(yīng)符合相關(guān)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范，以確保清洗的效果和可重復(fù)性。
在進(jìn)行電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗時(shí)，以上要求都是為了確保最終生產(chǎn)的硅片符合高純度和高質(zhì)量的要求。這些要求有助于避免因?yàn)殓娬直砻鏆埩舻奈廴疚锒肴毕�，從而影響電子�?jí)多晶硅硅片的生產(chǎn)質(zhì)量，應(yīng)對于以上的清洗要求，普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質(zhì)量不均勻，且整體自動(dòng)化程度低；因此需要一種高效、快速、自動(dòng)化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)壁清洗方式。
二、電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式
德高潔高壓水電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風(fēng)凈化烘干系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成，系統(tǒng)操作簡單，自動(dòng)化程度高，整個(gè)清洗工藝包含：還原爐鐘罩到位→預(yù)清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，全程僅需人工輔助作業(yè)，解決傳統(tǒng)人工清洗不安全、不環(huán)保、清洗效果差、自動(dòng)化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動(dòng)控制系統(tǒng)，能實(shí)現(xiàn)對還原爐鐘罩的自動(dòng)清洗和烘干，清洗烘干時(shí)間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調(diào)整設(shè)定，同時(shí)具有半自動(dòng)或手動(dòng)功能。一次吊裝在一個(gè)工作臺(tái)上完成全部清洗、烘干過程，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程對樓下設(shè)備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控。
全密閉式清洗烘干系統(tǒng)，清洗時(shí)采用高壓水三維立體清洗技術(shù)，以水力自驅(qū)動(dòng)三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射，實(shí)現(xiàn)內(nèi)部無死角清洗，以水為清洗介質(zhì)可有效避免靜電的產(chǎn)生，清洗后旋轉(zhuǎn)和升降清洗吹干執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)還原爐每個(gè)視孔鏡相對原點(diǎn)的相對位置進(jìn)行準(zhǔn)確定位，可自動(dòng)切換不同清洗液及吹干，通過控制系統(tǒng)可對清洗、吹干時(shí)間等進(jìn)行調(diào)整，清洗時(shí)只需一鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個(gè)還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)，防止清洗外溢，清洗后的廢水廢氣處理系統(tǒng)可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設(shè)計(jì)出口排放，基本消除了對現(xiàn)場及操作人員的污染。
德高潔高壓水電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，其核心部件、元件和附件原裝進(jìn)口保證了電子級(jí)多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)性能的可靠，可以在一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)鐘罩的清洗烘干。除此之外，根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特殊設(shè)計(jì)升級(jí)后的清洗工作臺(tái)，不僅可以滿足對內(nèi)壁和視孔鏡的清洗，同時(shí)也滿足了底部法蘭的清洗�？蓪�(shí)現(xiàn)對法蘭內(nèi)邊緣的清洗，保證整個(gè)法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。
目前，德高潔在多晶硅還原爐清洗行業(yè)已擁有國內(nèi)90%的用戶，為多晶硅行業(yè)提供了幾十套還原爐清洗系統(tǒng)，如您有需求歡迎電話咨詢，德高潔將竭誠為您服務(wù)。
由于多晶硅純度會(huì)嚴(yán)重影響到單晶硅拉制環(huán)節(jié)，所以電子級(jí)多晶硅雜質(zhì)含量要求更為苛刻，電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)廠家在工藝流程、設(shè)備維護(hù)、產(chǎn)品運(yùn)輸?shù)榷喾矫孢M(jìn)行提升，以提高企業(yè)的競爭力度。而在電子級(jí)多晶硅改良西門子法生產(chǎn)工藝中，還原爐是整個(gè)多晶硅生產(chǎn)系統(tǒng)的“心臟”部件，也是影響實(shí)際產(chǎn)量最核心的工藝環(huán)節(jié)，生產(chǎn)出來的多晶硅質(zhì)量的優(yōu)劣取決于它，因此還原爐鐘罩內(nèi)壁的清潔度直接影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量，同時(shí)，作為多晶硅的生產(chǎn)電耗比重首位的熱沉積反應(yīng)器，其內(nèi)壁的光潔可以有效降低還原電耗，所以在電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)過程中，多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)部清潔至關(guān)重要。
一、電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗要求
1、潔凈度要求
清洗過程中要確保潔凈度達(dá)到電子級(jí)別的標(biāo)準(zhǔn)，這通常意味著要徹底去除鐘罩表面的所有塵埃、污垢和任何可能對硅片產(chǎn)生負(fù)面影響的雜質(zhì)。
2、避免化學(xué)污染
清洗過程中使用的化學(xué)品必須是高純度的，并且不得留下任何殘留物。使用去離子水（DI水）等高純度水源是必要的，以避免引入任何額外的離子或雜質(zhì)。
3、溫度控制
清洗過程中的溫度應(yīng)該在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，以確保清洗劑的有效性，并防止對設(shè)備產(chǎn)生不良影響。同時(shí)，溫度控制也有助于防止在清洗過程中產(chǎn)生的水汽對設(shè)備腐蝕。
4、機(jī)械清洗
對鐘罩表面的機(jī)械清洗應(yīng)該是適用而徹底的，以在不傷害其內(nèi)部表面結(jié)構(gòu)的情況下，去除附著在表面的任何顆�；螂s質(zhì)。
5、避免靜電
電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)對靜電敏感，在清洗過程中要注意避免靜電的產(chǎn)生。
6、實(shí)時(shí)監(jiān)測和控制
清洗過程中要實(shí)時(shí)監(jiān)測清洗效果，確保達(dá)到規(guī)定的潔凈度標(biāo)準(zhǔn)。
7、設(shè)備保養(yǎng)
清洗設(shè)備本身也需要定期保養(yǎng)，以確保其正常運(yùn)行且不會(huì)引入額外的污染。
8、符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
清洗過程應(yīng)符合相關(guān)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范，以確保清洗的效果和可重復(fù)性。
在進(jìn)行電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗時(shí)，以上要求都是為了確保最終生產(chǎn)的硅片符合高純度和高質(zhì)量的要求。這些要求有助于避免因?yàn)殓娬直砻鏆埩舻奈廴疚锒肴毕�，從而影響電子�?jí)多晶硅硅片的生產(chǎn)質(zhì)量，應(yīng)對于以上的清洗要求，普通的還原爐鐘罩清洗方式處理速度慢、清洗質(zhì)量不均勻，且整體自動(dòng)化程度低；因此需要一種高效、快速、自動(dòng)化程度高的多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)壁清洗方式。
二、電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩高效清洗方式
德高潔高壓水電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風(fēng)凈化烘干系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成，系統(tǒng)操作簡單，自動(dòng)化程度高，整個(gè)清洗工藝包含：還原爐鐘罩到位→預(yù)清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，全程僅需人工輔助作業(yè)，解決傳統(tǒng)人工清洗不安全、不環(huán)保、清洗效果差、自動(dòng)化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動(dòng)控制系統(tǒng)，能實(shí)現(xiàn)對還原爐鐘罩的自動(dòng)清洗和烘干，清洗烘干時(shí)間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調(diào)整設(shè)定，同時(shí)具有半自動(dòng)或手動(dòng)功能。一次吊裝在一個(gè)工作臺(tái)上完成全部清洗、烘干過程，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程對樓下設(shè)備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控。
全密閉式清洗烘干系統(tǒng)，清洗時(shí)采用高壓水三維立體清洗技術(shù)，以水力自驅(qū)動(dòng)三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射，實(shí)現(xiàn)內(nèi)部無死角清洗，以水為清洗介質(zhì)可有效避免靜電的產(chǎn)生，清洗后旋轉(zhuǎn)和升降清洗吹干執(zhí)行機(jī)構(gòu)，根據(jù)還原爐每個(gè)視孔鏡相對原點(diǎn)的相對位置進(jìn)行準(zhǔn)確定位，可自動(dòng)切換不同清洗液及吹干，通過控制系統(tǒng)可對清洗、吹干時(shí)間等進(jìn)行調(diào)整，清洗時(shí)只需一鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個(gè)還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內(nèi)形成微負(fù)壓狀態(tài)，防止清洗外溢，清洗后的廢水廢氣處理系統(tǒng)可使污染物(廢氣、廢水等)在受控的條件下，按設(shè)計(jì)出口排放，基本消除了對現(xiàn)場及操作人員的污染。
德高潔高壓水電子級(jí)多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)，其核心部件、元件和附件原裝進(jìn)口保證了電子級(jí)多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)性能的可靠，可以在一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)鐘罩的清洗烘干。除此之外，根據(jù)還原爐底部法蘭的結(jié)構(gòu)特殊設(shè)計(jì)升級(jí)后的清洗工作臺(tái)，不僅可以滿足對內(nèi)壁和視孔鏡的清洗，同時(shí)也滿足了底部法蘭的清洗�？蓪�(shí)現(xiàn)對法蘭內(nèi)邊緣的清洗，保證整個(gè)法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。
目前，德高潔在多晶硅還原爐清洗行業(yè)已擁有國內(nèi)90%的用戶，為多晶硅行業(yè)提供了幾十套還原爐清洗系統(tǒng)，如您有需求歡迎電話咨詢，德高潔將竭誠為您服務(wù)。
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